Formation of Shallow p⁺-n Junction by B⁺ Implantation through As⁺-preamorphized Si

Sang Jik Kwon ,  Jong Duk Lee

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

저에너지 이온 주입 방법으로 형성된 박막 p+-n접합의 열처리 조건에 따른 특성

김재영 ,  이충근 ,  홍신남 외 2명

전자공학회논문지-SD

2004 .05

낮은 에너지의 As₂^(+) 이온 주입을 이용한 얕은 n^(+)-p 접합을 가진 70nm NMOSFET의 제작 ( 70nm NMOSFET Fabrication with Ultra-shallow n+-p Junctions Using Low Energy As₂^(+) Implantations )

최병용 ,  성석강 ,  이용덕 외 1명

전자공학회논문지-SD

2001 .02

Electrical and Boron Diffusion Characteristics in the AS Preamorphized P+ Polysillicon Gate

Sang Jik Kwon ,  Yeo Hwan Kim ,  Jong Duk Lee

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

6H-SiC P^(+)n 접합의 항복 전압을 위한 해석적 모형 ( Analytical Model of Breakdown Voltages for 6H-SiC p^(+)n Junction )

정용성

전자공학회논문지-SD

2001 .06

투과전자현미경을 이용한 $n^+$/p 접합에서 불순물의 이차원적 분포에 관한 연구

Pa ,  k ,  Chel-Jong 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

이온주입 및 열처리 조건에 따른 박막접합의 특성 비교 ( Comparison of Shallow Junction Properties depending on Ion Implantation and Annealing Conditions )

홍신남 ,  김재영

전자공학회논문지-D

1998 .07

선비정절화를 이용한 Shallow p+-n 접합 형성에 관한 연구 ( A Study on the Formation of Shallow p+-n Junctions Using Preamorphization )

한명석 ,  홍신남 ,  김형준

전자공학회논문지-A

1991 .09

FORMATION OF ULTRA SHALLOW JUNCTION USING ADDITIONAL RAPID THERMAL ANNEALING ( RTA ) PROCESS

Kil Ho Lee ,  Sang Ho Yu

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Electrical Characteristics of Titanium Silicided Shallow Junction

박지수 ,  손동균 ,  변정수 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

SHALLOW JUNCTION DIODE FORMATION USING EPITAXIAL $CoSi_2$ AS A DIFFUSION SOURCE

Bae ,  K. S. ,  Koo 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

붕소 이온주입에 의한 p⁺n 접합 다이오드에 관한 연구

김동수 ,  정원채

대한전자공학회 학술대회

2000 .11

I-V and C-V Measurements of Fabricated P +/N junction Diode in Antimony doped (111) Silicon

Won-ChaeJung

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2002 .01

Shallow P n Junction Formation by the Epi-Co Silicide Formed using Co / Ti Bilayer

변성자 ,  김기범 ,  권상직 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Characterization of Reverse Leakage Current of Shallow Silicide Junction

Hi Deok Lee ,  이상기 ,  Ha Joong Kim 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

비소로 선무정질화된 p+ 다결정 규소박막의 물성 ( Characteristics of As Preamorphized p+-Polycrystalline Silicon Film )

김여환

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Electromagnetic properties of Co/Si/Co tunneling junction

Kim ,  an-Bae ,  Woo 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Shallow S/D Junction에 적용 가능한 NiSi를 형성하기 위한 Ni-Pd 합금의 특성 연구

이원재 ,  오순영 ,  아그츠바야르 투야 외 9명

대한전자공학회 학술대회

2005 .11