박막 접합 형성을 위한 열처리 방법에 관한 연구

한명석 ,  김재영 ,  이충근 외 1명

전자공학회논문지-IE

2002 .03

A$s^+$이온을 주입시킨 Si 표면부 미세구조와 특성

신동원 ,  최철 ,  박찬경 외 1명

한국재료학회지

1992 .01

이온주입 특성 개선을 위한 분자동역학적 연구

양영준 ,  이치우

에너지공학

2009 .06

낮은 에너지로 실리콘에 이온 주입된 분포와 열처리된 인듐의 거동에 관한 시뮬레이션과 모델링

정원채

전기전자재료학회논문지

2016 .01

실리콘에서 깊은 접합의 형성을 위한 알루미늄의 확산 모델

정원채

전기전자재료학회논문지

2020 .01

소형 플라즈마 이온 주입 장치에 의한 표면개질

왕덕현

한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집

2013 .05

저에너지 이온 주입 방법으로 형성된 박막 p+-n접합의 열처리 조건에 따른 특성

김재영 ,  이충근 ,  홍신남 외 2명

전자공학회논문지-SD

2004 .05

중수소 이온 주입에 의한 MOS 커패시터의 게이트 산화막 절연 특성 개선

서영호 ,  이재성 ,  도승우 외 1명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

고속 열처리 장치를 이용한 Alloy 공정과 Implantation Annealing ( Metal Alloy and Implantation Annealing by Rapid Thermal Processing )

김충기 ,  이동엽 ,  조병진

한국통신학회 학술대회논문집

1989 .01

박막 p+-n 접합 형성과 보론 확산 시뮬레이터 설계

이충근 ,  김재영 ,  김보라 외 1명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

열처리 조건에 따른 HgCdTe 의 접합 특성 ( HgCdTe Junction Characteristics after the Junction Annealing Process )

정희찬 ,  김관 ,  이희철 외 2명

전자공학회논문지-A

1995 .02

이온가속주입에 따른 알루미늄의 표면에너지 특성 변화 관찰

김기욱 ,  김용환 ,  정지환

대한기계학회 춘추학술대회

2014 .11

마스크 Dimensions 와 열처리 조건에 따른 이온의 분포에 관한 연구 ( A Study of Ion Distribution according to Mask dimensions and Annealing conditions )

안병목 ,  정원채

대한전자공학회 학술대회

1998 .07

마스크 Dimensions와 열처리 조건에 따른 이온의 분포에 관한 연구

안병목 ,  정원채

대한전자공학회 학술대회

1998 .06

이온주입에 의한 Al5202의 표면특성에 관한 연구

김남훈 ,  김남경 ,  김경균

한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집

2006 .06

해석모델을 이용한 3차원 이온주입 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Ion Implantation Simulator Using Analytical Model )

박화식 ,  이준하 ,  황호정

전자공학회논문지-A

1993 .12

붕소 이온주입에 의한 p⁺n 접합 다이오드에 관한 연구

김동수 ,  정원채

대한전자공학회 학술대회

2000 .11

금속이온주입 특성 개선을 위한 분자동역학적 연구

양영준 ,  이치우 ,  김남경 외 1명

한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집

2009 .06

이온주입법에 의한 폴리이미드 박막의 표면개질에 대한 연구

김종택 ,  육재호 ,  박종관 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .07