Adhesion-promoted copolymers based on copolymers of norbornene derivatives and maleic anhydride for 193-nm photoresist

김백진 ,  윤효진 ,  권영길 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Chemically amplified resists based on the methacrylate polymers with cholic acid derivatives

김진백 ,  이범욱 ,  윤효진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Preparation of nanoparticles based on cholic acid and gltcidyl methacrylate pullulan

전선웅 ,  정영일 ,  김인숙 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

The Reaction of Methyl Methacrylate - Methacrylic Acid Copolymer with Glycidyl Methacrylate

변형직 ,  박완빈 ,  최규석

폴리머

1979 .05

Tuning the Phase Behavior of polystyrene-block-poly (n-alkyl methacrylate) Copolymers by Introducing Random Copolymer for Methacrylate Block

문흥철 ,  한성현 ,  김진곤 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2009 .10

탄성이 우수한 Photoresist용 Acryl계 Copolymer의 제조 및 특성

안경원 ,  채헌승 ,  박연흠

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2004 .04

Poly(3-allyl-7,7-dimethyl-oxepan-2-one-co-maleic anhydride) for a 193-nm photoresist

이재준 ,  이관구 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Synthesis and Characterization of Low Molecular Weight Poly(maleic anhydride-co-vinyl acetate) Copolymers

Yoon ,  Kee-Jong ,  Woo 외 3명

한국섬유공학회 심포지엄

2003 .01

Synthesis and Characterization of Hydrophilic Methacrylate Copolymers

성용길 ,  이상영 ,  서금희 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1983 .10

Photodegradation of Poly ( Methyl Methacrylate - co - Dione Monooxime Methacrylate ) as Deep UV Photoresists

채규호 ,  황인동 ,  최민호

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1990 .04

Cholic Acid Conjugated Cationic Methyl Cellulose Derivatives for Drug Delivery System

박재홍 ,  유기태 ,  이경진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2017 .04

Synthesis and Photodegradation of Poly ( methyl methacrylate - co -3- oximino -2- butanone methacrylate - co - t - butylbenzoyloxy - ethyl methacrylate ) as Deep UV Photoresists

채규호 ,  황인동 ,  박서호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1987 .04

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Cholic Acid-Decorated Methyl Cellulose-Polyethylenimine for Drug Delivery System

전주현 ,  김태완 ,  유기태 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2016 .04