Inhibition of Surface Insolubilization in Chemically Amplified Positive Type Deep - UV Resists

양승관 ,  박찬언 ,  강종희 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1994 .10

원자외선 미세가공용 레지스트 재료 ( Resist Materials for Deep UV Lithography )

안광덕

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

t - BOC 보호 포스파젠 용해억제제를 이용한 포지티브형 화학증폭성 레지스트

정동욱 ,  박영철 ,  강종희 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1991 .10

New chemically Amplified Deep-UV Resist Based on Difunctional Protecting Group

이대엽 ,  이시형 ,  정시영 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists

김진백 ,  권영길 ,  최재학

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Charge Reducing Effect of Chemically Amplified Resist

Tetsu ,  o Nakasugi ,  Shunko Magoshi 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트

최재학 ,  노영창 ,  홍성권

공업화학

2006 .01

Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Positive Resists in X-Ray Lithography

Ji ,  o Nakamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

다층 레지스트 구조를 위한 하층 레지스트의 최적화 ( OPTIMIZATION OF BOTTOM LAYER RESIST FOR MLR PROCESS )

양전욱 ,  심규환 ,  강진영 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

A PED-stabilized Chemically Amplified Resist

김진백 ,  최재학 ,  정민호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Insolubilization of Lignin Nanofibers Using Plasma Treatment

이은실 ,  이헌수 ,  정용채

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2015 .04

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

3층 레지스트 구조에서 하층 레지스트의 광 흡수 및 건식 식각 특성 ( The Light Absorption and Dry Etch Characteristics of the Bottom Resist in Trilevel Resist Structure )

황영모 ,  이진희 ,  최영규 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

원자외선의 분광복사도 측정

신동주

조명·전기설비

1997 .08

다층 레지스트 구조를 이용한 sub-μm 패턴 형성에 관한 연구 ( A Study on the Sub-μm Pattern Formation by using the Multi Layer Resist Structures )

심규환 ,  이진희 ,  강진영 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Elememtwise Patterned Stamp와 부가압력을 이용한 UV 나노임프린트 리소그래피 공정

손현기 ,  정준호 ,  심영석 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2004 .05