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화학증폭을 이용한 원자외선용 포지티브 레지스트의 표면 불용성 억제
폴리머
1994 .07
고집적 반도체 미세가공용 레지스트
전자공학회잡지
1984 .10
고집적 반도체 미세 가공용 레지스트
고분자 과학과 기술
1990 .11
다층 레지스트 구조를 위한 하층 레지스트의 최적화 ( OPTIMIZATION OF BOTTOM LAYER RESIST FOR MLR PROCESS )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
레지스트 조건에 따른 나노임프린트 Filling 현상
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2010 .05
3층 레지스트 구조에서 하층 레지스트의 광 흡수 및 건식 식각 특성 ( The Light Absorption and Dry Etch Characteristics of the Bottom Resist in Trilevel Resist Structure )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
원자외선의 분광복사도 측정
조명·전기설비
1997 .08
Polymeric Materials for Extreme UV Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2011 .04
다층 레지스트 구조를 이용한 sub-μm 패턴 형성에 관한 연구 ( A Study on the Sub-μm Pattern Formation by using the Multi Layer Resist Structures )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
Elememtwise Patterned Stamp와 부가압력을 이용한 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2004 .05
전자빔 네가티브 레지스트의 건식현상에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1994 .11
극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트
공업화학
2006 .01
UV 레지스트용 노블락 수지의 특성
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1992 .04
반도체 미세가공용 포토레지스트의 ( Photo - resist ) 연구방향
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1989 .04
The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1996 .04
Fabrication of 3D Microstructures with Single uv Lithography Step
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2002 .12
ADVANCED LITHOGRAPHY
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
플라즈마중합막의 제작과 레지스트 특성에 관한 연구
전기학회논문지
1994 .05
Newly Designed Resists Based on Acrylated Structure for 193 nm Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1998 .04
POSS hybrid resists containing diazoketo groups for UV curing nanoimprint lithography (UV-NIL)
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2013 .10
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