ALD 방법으로 증착된 HfO₂/Hf 박막을 게이트 절연막으로 사용한 MOS 커패시터 제조

이대갑 ,  도승우 ,  이재성 외 1명

전자공학회논문지-SD

2007 .05

HfO₂/Hf/Si MOS 구조에서 나타나는 HfO₂박막의 물성 및 전기적 특성

배군호 ,  도승우 ,  이재성 외 1명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

ALD 방법으로 Si(100) 기판에 증착한 $HfO_2$ 게이트 유전박막의 특성

김좌연 ,  이희환 ,  채상훈 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

비휘발성 메모리 응용을 위한 ALD법을 이용한 HfO₂ 절연막의 특성

정순원 ,  구경완

전기학회논문지

2010 .08

ALD법으로 성장한 HfO 박막의 열처리에 따른 특성변화

이재웅 ,  함문호 ,  맹완주 외 2명

한국재료학회지

2007 .01

$Hf[N(CH_3)_2]_4$ precursor를 이용한 $HfO_2$ 박막의 성장 기구와 전기적 성질에 관한 고찰

조문주 ,  박홍배 ,  박재후 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

Non-saturated Atomic Layer Deposition for Composition Adjustment in $Al_2O_3-HfO_2$ Thin Films

정회성 ,  김지헤 ,  강상원

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

습식식각을 이용한 HfO₂ 박막의 식각특성

양정열 ,  황택성 ,  곽노석 외 2명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

$Hf(MMP)_4$원료 물질을 이용해서 증착한 MOCVD $HfO_2$ 박막의 특성 분석

박재후 ,  조문주 ,  박홍배 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

ALD방법으로 증착한 $HfO_2$ 박막의 성장기구와 전기적 성질에 관한 고찰

조문주 ,  박재후 ,  박병건 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

Gate 산화막으로 $HfO_2$ 박막을 이용하여 제작한 NFET 특성 고찰

박재후 ,  조문주 ,  박홍배 외 4명

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2003 .01

Al₂O₃/HfO₂ Moisture Barrier Films on Polymer Grown by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition

김래호 ,  장진혁 ,  박선욱 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2016 .04

Effects of Hf addition in thin-film-transistors using Hf-Zn-O channel layers deposited by atomic layer deposition

김소희 ,  안철현 ,  조형균

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .05

Si기판위에서 CVD를 이용한 gate dielectric 용 HfO$_2$ 박막의 증착과 분석

박병건 ,  박재후 ,  조문주 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

New HFO-Based Option(HFO기반의 다양한 냉매 옵션)

윤린

설비저널

2011 .04

원자층 증착법으로 형성된 고유전율 절연막의 특성

정순원 ,  박지현 ,  구경완

대한전기학회 학술대회 논문집

2010 .04

Gate 박막용 $HfO_2$ 박막의 증착과 분석

박재후 ,  박병건 ,  조문주 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

HfO₂ 박막 특성에 대한 주성분 분석을 이용한 신경망 모델링

고영돈 ,  이정환 ,  함문호 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

HfO₂-Si의 조성비에 따른 HfSiO_x의 IZO 기반 산화물 반도체에 대한 연구

조동규 ,  이문석

전자공학회논문지

2013 .02