비휘발성 메모리 응용을 위한 ALD법을 이용한 Al₂O₃ 절연막의 특성

정순원 ,  이기식 ,  구경완

전기학회논문지

2009 .12

비휘발성 메모리 응용을 위한 ALD법을 이용한 HfO₂ 절연막의 특성

정순원 ,  구경완

전기학회논문지

2010 .08

R2R 기반 공간분할형 원자층 증착(ALD) 시스템에 관한 연구

김효태 ,  최경현 ,  양영진 외 3명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2016 .10

ALD 방법으로 Si(100) 기판에 증착한 $HfO_2$ 게이트 유전박막의 특성

김좌연 ,  이희환 ,  채상훈 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

상압 기반의 공간분할형 원자층 증착(ALD) 시스템 개발

김효태 ,  최경현 ,  양영진 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2016 .12

ALD방법으로 성장된 HfO₂/Hf/Si 박막의 전기적 특성

이대갑 ,  도승우 ,  이재성 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2006 .06

소형 원자층 증착 장치

한권덕 ,  박석원 ,  최형종 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2016 .05

HIGH-THROUGHPUT PROCESS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Shin ,  Woong-Chul ,  Choi 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

High-k Thin Films by Atomic Layer Deposition for Energy and Information Storage

안지환

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2018 .12

ALD법으로 성장시킨 Al₂O₃ 박막의 특성분석

성석제 ,  김동진 ,  배영호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2001 .06

반도체 ALD 공정에서의 질화규소 증착 수치해석

송근수 ,  유경훈

대한기계학회 춘추학술대회

2007 .05

공간 분할형 상압 원자층 증착 시스템 개발

이재욱 ,  김현범 ,  양성욱 외 2명

한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집

2017 .04

SIMULTANEOUS DEPOSITION OF INTRINSIC A-SI:H THIN LAYERS ON BOTH SIDE OF WAFERS FOR LOW COST AND HIGH EFFICIENCY A-SI:S/C-SI HETERO-JUNCTION SOLAR CELLS

Dae Young Jeong ,  Jun Yong Song ,  Kyung Min Kim 외 3명

AFORE

2011 .11

ALD 방법으로 증착된 HfO₂/Hf 박막을 게이트 절연막으로 사용한 MOS 커패시터 제조

이대갑 ,  도승우 ,  이재성 외 1명

전자공학회논문지-SD

2007 .05

원자층 증착법(Atomic Layer Deposition)에 의해 성장된 단말장치용 ZnO 투명 전도 박막 특성

박현식

정보 및 제어 논문집

2012 .10

TOP ELECTRODE ANNEALING EFFECTS IN SrBi$_2$Ta$_2$O$_9$/CeO$_2$/Si STRUCTURE

Shin ,  Dong-Suk ,  Lee 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

원자층증착 기술: 개요 및 응용분야

신석윤 ,  함기열 ,  전희영 외 3명

한국재료학회지

2013 .01

Low Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Cobalt

김재민 ,  김형준

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01