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양지철 (성균관대학교) 김호중 (성균관대학교) 이칠기 (성균관대학교) 김태성 (성균관대학교)
저널정보
한국트라이볼로지학회 한국트라이볼로지학회 학술대회 한국윤활학회 2010년도 제50회 춘계학술대회
발행연도
2010.6
수록면
155 - 156 (2page)

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Micro-scratch is the most challenging issue in CMP (chemical mechanical planarization) process. Even much investigation has been tried to eliminate surface scratches, the understanding the origins of the scratches during polishing are still needed. In this study, we examined the relationship between CMP debris and micro-scratc ... 전체 초록 보기
#Chemical Mechanical Planarization #Particle #Pad Debris #Micro Scratch

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