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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2008.11
- 수록면
- 252 - 255 (4page)
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In this paper, the correlations between the wear type of conditioning diamond disk and CMP micro scratches were investigated. The measurement of micro-scratch shapes with the advanced inspection systems showed not only the stereotype induced by slurry and pad debris but also the irregular ones like a few micro sized line presumably by harder particles. To understand the generation mechanism of these unfamiliar types of the micro scratch, we analyzed the surface of diamond disk with optical microscopy and atomic force microscope (AFM). The wear test for diamond disks with different distances between diamonds showed the different diamond wear shapes and surface roughness from a few microns to several tens of microns. It seemed that the surface roughness and micro-chipped particle of diamond contact area were closely connected with scratches made by the small and harder particle sources. The pattern result of diamond disk with optimal distances between diamonds shows the lower level of micro scratches. The result of this work could be used to understand one of the scratch mechanisms and decrease the micro-scratch level in CMP process.
목차
ABSTRACT
1. Introduction
2. Experimental Conditions
3. Experimental Results
4. Conclusion
Acknowledgements
References
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