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학술대회자료
저자정보
이영목 (고려대학교) 신동희 (고려대학교) 신종한 (하이닉스반도체) 임대순 (고려대학교)
저널정보
한국트라이볼로지학회 한국트라이볼로지학회 학술대회 한국윤활학회 2007년도 제45회 추계학술대회 및 자동차트라이볼로지 한.중 심포지엄/정기총회
발행연도
2007.11
수록면
185 - 195 (11page)

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Aluminum generates the micro-scratch easily due to the soft and corrosive characteristics of Al material. Micro-scratch causes the electro-migration so that it finally undergoes short-circuit of the device. To optimize the Al-CMP process without defect, important roles of abrasive particle size and stability in the slurry should be understand. In this study, the effect of the additive addition on the particle size and dispersion characteristic in the slurry has been investigated. The variations of the removal rate and roughness as a function of the additive concentration were also studied. The removal rate increased with increasing concentration of the citric acid but decreased with increasing H₂O₂ concentration. The optimized roughness with addition of the O.6wt% PSS(Poly sodium 4-styrene-sulfonate) was achieved by the optimized dispersion and minimum particle size of the particles. The results of this study showed the material removal rate depended on the modification of the chemical reaction of the abrasive particle and Al film but the roughness depended on dispersion behavior of the abrasive particles.
#Chemical Mechanical Polishing #additive #zeta-potential #removal rate

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
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