DRY ETCHING TECHNOLOGY

Takafumi Tokunaga

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

습식 화학 식각에 의한 다결정 실리콘 웨이퍼의 표면 텍스쳐링

김범호 ,  이현우 ,  이은주 외 1명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2006 .11

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  한승수

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11

DRY/WET ETCHING FOR EMITTER IN CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELL

Hyun Yub Kim ,  Jae Woo CHOI ,  Kyu Wan SONG 외 2명

AFORE

2011 .11

The effect of rear side etching for crystalline Si solar cells

신정현 ,  김선희 ,  이홍재 외 2명

한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집

2010 .06

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si 건식 식각 시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  노호택 ,  한승수

대한전자공학회 학술대회

2014 .06

Dry Etch 기술 동향 및 전망

김진웅

전자공학회지

2001 .08

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Chemical etching을 이용한 W probe shape 결정

김선경 ,  유상용 ,  김석 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2011 .06

MEMS 적용을 위한 Thermal CVD 방법에 의해 증착한 SiC막의 반응성 이온 Etching 특성 평가

최기용 ,  최덕균 ,  박지연 외 1명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

The Fabrication Method of Tip Array by Glass Deep Dry Etching Process

박태규 ,  민정기 ,  오영택 외 1명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2011 .04

유도결합 플라즈마를 이용한 PST 박막의 식각 특성

김동표 ,  김창일 ,  김관하 외 1명

전기전자재료학회논문지

2003 .01

Novel Process of SiO2 / Si Selective Etching Using New Gas System against Global Warning

M. Ho ,  i ,  M. Fujita 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Ar⁺ ion laser를 이용한 단결정/다결정 Si 식각 특성 분석

이현기 ,  박정호 ,  이천

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .11

The Fabrication of an Applicative Device for Trench Width and Depth Using Inductively Coupled Plasma and the Bulk Silicon Etching Process

우종창 ,  최창억 ,  김창일

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2014 .01