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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Hiroyuki Yamauchi (Fukuoka Institute of Technology)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.10 No.2
발행연도
2010.6
수록면
118 - 129 (12page)

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A lower-threshold-voltage (LVth) SRAM cell with an elevated cell biasing scheme, which enables to reduce the random threshold-voltage (Vth) variation and to alleviate the stability-degradation caused by word-line (WL) and cell power line (VDDM) disturbed accesses in row and column directions, has been proposed. The random Vth variation (σVth) is suppressed by the proposed LVth cell. As a result, the LVth cell reduces the variation of static noise margin (SNM) for the data retention, which enables to maintain a higher SNM over a larger memory size, compared with a conventionally being used higher Vth (HVth) cell. An elevated cell biasing scheme cancels the substantial trade-off relationship between SNM and the write margin (WRTM) in an SRAM cell. Obtained simulation results with a 45-㎚ CMOS technology model demonstrate that the proposed techniques allow sufficient stability margins to be maintained up to 6σ level with a 0.5-V data retention voltage and a 0.7-V logic bias voltage.

목차

Abstract
Ⅰ. INTRODUCTION
Ⅱ. REDUCING MISMATCH OF CELL-MARGIN CHARACTERISTICS
Ⅲ. DISTURB-FREE BIASING SCHEME
Ⅳ. EVALUATION RESULTS
Ⅴ. CONCLUSIONS
ACKNOWLEDGMENTS
REFERENCES

참고문헌 (15)

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