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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
Hong Zhu (Hong Kong University) Volkan Kursun (Hong Kong University)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 ISOCC ISOCC 2011 Conference
발행연도
2011.11
수록면
333 - 336 (4page)

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Data stability is a major concern in today’s high performance memory circuits with deeply scaled transistors and power supply voltages. Multi-threshold-voltage (multi-Vt) ninetransistor (9T) Static Random Access Memory (SRAM) cells with enhanced data stability and superior overall electrical quality characteristics are presented in this paper. 9T SRAM cells eliminate the data disturbance by isolating the bitlines from data storage nodes during read operations. The design tradeoffs of 9T multi-Vt SRAM cells are explored with a TSMC 65nm CMOS technology that provides a rich set of device threshold voltage options. A triple-threshold-voltage 9T memory cell offers up to 9.7X higher overall electrical quality as compared to a previously published single-threshold-voltage 9T SRAM cell.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. TRANSISTOR THRESHOLD VOLTAGE OPTIONS
III. CHARACTERIZATION OF 9T SRAM CIRCUITS
IV. CONCLUSIONS
REFERENCES

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2013-569-001475062