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김도형 (동의대학교) 이영주 (동의대학교) 윤한기 (동의대학교) Do-Hoon Shin (토쿠시마대학) Ri-ichi Murakami (토쿠시마대학)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2006년도 제1차 재료 및 파괴부문 학술대회 논문집
발행연도
2006.3
수록면
93 - 98 (6page)

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The thin film of indium tin oxide (ITO) was prepared by the inclination opposite target type DC magnetron sputtering equipment onto the glass and PET substrates at room temperature using oxidized ITO with In₂O₃ and SnO₂ in a weight ratio of 9:1. The resistivity, elastic modulus and hardness of the ITO films prepared at different work pressure are determined. The results show that the variation of work pressure during film deposition could vary significantly the elastic modulus and hardness of the ITO thin film. It also can be seen that a minimum exists in the film resistivity for ITO film prepared according to the variation of work pressure. However, a X-ray diffraction peak of ITO thin film is not clear, regardless of the work pressure.
#Indium tin oxide(인듐주석산화물) #ITO/Glass thin film(ITO/Glass 박막) #ITO/PET thin film(ITO/PET 박막) #DC MG sputtering method(DC 마그네트론 스파터링법) #Resistivity(저항률) #Elastic modulus(탄성계수) #Hardness( 경도) #Nano-indentation(나노인덴테이션)

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
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