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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.1
- 수록면
- 126 - 130 (5page)
이용수
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2013
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본 연구에서는 일반적인 RF Sputtering 방법보다 고품질의 박막제조가 용이하며 유연성 기판인 PET 등이 plasma 분위기에서 휘어지는 것을 방지할 수 있는 Off-axis 방법을 이용하여 저온 (약 120℃)에서 결정화된 ITO 박막을 얻었다. XRD 회절패턴을 통해 PET 기판에서의 ITO 박막은 (222) 면의 방향성을 가지며 결정화되었다. 약 58nm 두께의 ITO 박막은2×10-4Ω-cm 의 비저항과 가시광선 영역에서 약 75% 의 광투광율을 보였다. 일정한 비저항을 유지하면서 광투과율 향상을 위하여 ITO 박막위에 SiO2 박막을 증착하여 광투과율이 향상되었다.
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