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논문 기본 정보

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저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제17권 제12호
발행연도
2004.1
수록면
1,277 - 1,282 (6page)

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ITO films on PET substrate were prepared by DC magnetron sputtering method using powdery target with different deposition conditions. In addition, the electrical and optical properties were investigated. As the sputtering power and working pressure were higher, the resistvity of ITO films increased. The optical transmittance deteriorated with increasing sputtering power and thickness. As the working pressure increased, however, the optical transmittance improved at visible region of light. From these results, we could deposited ITO films with 8×10-3 Ω-cm of resistivity and 80 % of transmittance at optimal conditions.
#ITO #TCO #Sputtering #PET substrate #Electrical property #Optical property

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/ 1983. / High rate planar magnetron deposition of transparent, con- ducting, and heat reflecting films on glass and plastic Al(2) : 352 ~ google schola / 1989. / A method of increasing the utilization ratio of planar magnetron sputtering targets 37 : 315 ~ google schola / 1989. / Effect of target-substrate dis- tance on the growth and properties Rf- sputtered indium tin oxide films 65 : 1270 ~ google schola / 1992. / Post-deposition annealing effects in RF reactive magnetron sputtered indium tin oxide thin films 26 : 309 ~ google schola / 1993. / R. F. magnetron-sputtered indium tin oxide film on a reactively ion-etched acrylic sub- strate 229 : 146 ~ google schola

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