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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 창립 60주년 기념 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2005.11
수록면
1,493 - 1,498 (6page)

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The thin film of indium tin oxide (ITO) was prepared by the inclination opposite target type DC magnetron sputtering equipment onto the PET substrate at room temperature using oxidized ITO with In₂O₃ and SnO₂ in a weight ratio of 9:1. The elastic modulus, hardness and resistivity of the ITO films prepared at different work pressure are determined. The results show that the variation of work pressure during film deposition could vary significantly the elastic modulus and hardness of the ITO film. It also can be seen that a minimum exists in the film resistivity for ITO film prepared according to the variation of work pressure. However, a X-ray diffraction peak of ITO thin film is not clear, regardless of the work pressure.
#Elastic modulus(탄성계수) #Hardness(경도) #Resistivity(저항률) #Nano-indentation(나노인덴테이션) #Indium tin oxide(인듐 주석 산화물)

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
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