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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
Reference
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다층 배선 구조에서 Etchback 방식에 의한 층간 절연막의 평탄화 ( The Planarization of Interdielectric Film by Etchback Process in Multilevel Metallization )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
새로운 Pillar 제조 기법과 SOG etchback 평탄화 기법을 이용한 다층 배선기술
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
층간절연막적용을 위한 Polyimide의 화학기계적 평탄화 공정
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
화학기계적폴리싱(CMP)에 의한 층간절연막의 광역평탄화에 관한 연구
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
1996 .11
이층 배선공정에서 층간 절연막의 층덮힘성 연구 : PECVD와 $O_3$ThCVD 산화막
한국재료학회지
1992 .01
Alternative Optimization Techniques for Shallow Trench Isolation and Replacement Gate Technology Chemical Mechanical Planarization
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2007 .01
이중 금속배선 공정에 응용되는 절연막 재질의 특성 분석 ( An Experimental Analysis of Double Metallization Process Using VArious Insulatoor Materials )
대한전자공학회 학술대회
1981 .01
다층 배선 구조를 갖는 Sub-Micron CMOS에서의 Contact 평탄화 기술
전자공학회지
1992 .05
DHF를 적용한 웨이퍼의 층간 절연막 평탄화에 관한 연구
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2002 .05
Metallization
대한전자공학회 단기강좌
1982 .01
Cu 배선의 평탄화를 위한 ECMD에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
절연막을 평탄층으로 이용한 금속선 형성 공정 연구 ( A Study on Metal Line Deposition Process by Using Dielectric Film as a Planarizing Layer )
대한전자공학회 학술대회
1992 .01
다층 배선 기술의 문제점 및 동향
전자공학회지
1990 .08
패턴된 기판에 금속 배선 형성
한국표면공학회지
1995 .10
다층 배선 공정기술 및 향후 동향연구
[ETRI] 전자통신동향분석
1991 .09
Reliable Al-alloy Via Structure over CVD W for Multilevel Metallization
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
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