65 ㎚이하 shallow trench isolation (STI) gap fill 특성향상을 위한 profile 개선 연구

김희대 ,  박창기 ,  이내응

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

STI 구조를 갖는 소자의 leakage path 발생 과정에 대한 모델링 연구

서대만 ,  박연식 ,  상재호 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2010 .05

Shallow Trench Isolation for 0.15mm Device

Jung H. Lee ,  Se J. Rhee ,  Jun G. Choi 외 4명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

THE CHARACTERIZATION OF SHALLOW TRENCH ISOLATION CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION(STI CMP) THROUGH THE ANALYSIS FOR RELATIONSHIP OF BETWEEN PATTERN AND NON-PATTERN WAFER

Kim ,  Yong-Sik ,  Lee 외 7명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

고집적 회로의 트렌치 소자분리를 위한 매립 산화물의 치밀화 연구 ( Densification of the Filled Oxide for VLSI Shallow Trench Isolation ( STI ) )

박태서 ,  이한신 ,  박문한 외 4명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01

STI-CMP 공정의 질화막 잔존물 및 패드 산화막 손상에 대한 연구

李愚宣 ,  徐龍辰 ,  金相用 외 1명

전기학회논문지 C

2001 .09

TRENCH ETCHING FOR SHALLOW TRENCH ISOLATION USING $Cl_2/Ar$ PLASMA

Kim ,  C.B. ,  Jun 외 7명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

A Study on the Electrical Characteristics of Ultra Thin Gate Oxide

Gum-Yong Eom

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2004 .01

Simulations of Stress and Narrow Width Effects in Shallow Trench Isolation and Its Applications

Yong-Jae Lee ,  Jong-Hyung Lee

INTERNATIONAL CONFERENCE ON FUTURE INFORMATION & COMMUNICATION ENGINEERING

2011 .06

Flowable oxide CVD Process for Shallow Trench Isolation in Silicon Semiconductor

Sung-Woong Chung ,  Sang-Tae Ahn ,  Hyun-Chul Sohn 외 1명

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2004 .03

STI-CMP공정에서 표면특성에 미치는 패턴구조 및 슬러리 종류의 효과

이훈 ,  임대순 ,  이상익

한국트라이볼로지학회 학술대회

2002 .05

비이상 불순물 분포 상태가 $CoSi_2$와 STI 공정에 의해서 제작된 CMOS 소자의 누설전류에 미치는 영향에 관한 연구

최철종 ,  성태연

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

Trench isolation을 사용한 다이오드의 전기적 특성

편광의 ,  양전욱 ,  조경익 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1986 .06

Trench isolation을 사용한 다이오드의 전기적 특성 ( The Electrical Characteristics of diode using trench isolation )

편광의 ,  양전욱 ,  조경익 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

Determination of End Point for Direct Chemical Mechanical Polishing of Shallow Trench Isolation Structure

Yong-Jin Seo ,  Kyoung-Jin Lee ,  Sang-Yong Kim 외 1명

KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications

2003 .02

Reproducible Chemical Mechanical Polishing Characteristics of Shallow Trench Isolation Structure using High Selectivity Slurry

So-young-Jeong ,  Yong-JinSeo ,  Sang-YongKim

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2002 .01

제안된 얕은 트랜치 격리에서 구조형태에 따른 제작 및 특성의 시뮬레이션

이용재

한국정보통신학회논문지

2012 .01

Shallow trench 식각 공정시 발생하는 손상의 후속 열처리 및 산화공정에 따른 거동에 관한 연구

이영준 ,  황순원 ,  이주욱 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Shallow Trench 식각공정시 발생하는 결함의 후속열처리 및 산화공정에 따른 거동에 관한 연구

이영준 ,  황순원 ,  김현수 외 3명

한국표면공학회지

1998 .10

Anomalous Subthreshold Characteristics of Shallow Trench-Isolated Submicron NMOSFET with Capped p-TEOS/SiN

Hyung J. Lee

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2002 .01