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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2006.10
- 수록면
- 158 - 159 (2page)
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The resistance-capacitance (RC) delay of signals through interconnection materials becomes a big hurdle for high speed operation of semiconductors which contain multilayer interconnection layers. In order to reduce the RC delay. low- k materials will be used for inter-metal dielectric (IMD) materials. We have developed self-consistent simulation tool that includes neutral-species transport model, based on the relaxation continuum (RCT) model. ... 전체 초록 보기
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