플라즈마 챔버의 특성 분석 및 최적 설계를 위한 가상의 시뮬레이션 환경 개발

김헌창; 설용태

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김헌창 (호서대학교 환경안전공학부 화학공학) 설용태 (호서대학교 전기전자공학부 전기공학)

저널정보: 한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체장비학회지 한국반도체장비학회지 제2권 제4호

발행연도: 2003.1

수록면: 9 - 12 (4page)

이용수

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This paper describes a newly developed simulation environment for analysis and design of a plasma processing chamber based on first principles including complicated physical and chemical interactions of plasma, fluid dynamics of neutrals, and transport phenomena of particles. Capabilities of our simulator, named VIP-SEPCAD (Virtual Integrated Prototyping Simulation Environment for Plasma Chamber Analysis and Design), are demonstrated through a two dimensional simulation of an oxygen plasma chamber. VIP-SEPCAD can provide plasma properties such as spatiotemporal profiles of plasma density and potential, electron temperature, ion flux and energy, etc. By coupling neutral and particle transport models with a three moment plasma model, VIP-SEPCAD can also predict spatiotemporal profiles of chemically reactive species and particles exist in plasma.

#Plasma Process #Plasma Simulation #Particles in Plasma #Oxygen Plasma

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김헌창

소속기관 호서대학교 화학공학과

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

논문수 3 이용수 17

설용태

소속기관 호서대학교 디지털디스플레이공학과

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

논문수 8 이용수 82

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