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자료유형
학술저널
저자정보
최명선 (서울대학교 공과대학 에너지시스템공학부) 장윤창 (서울대학교 공과대학 에너지시스템공학부) 이석환 (서울대학교 공과대학 에너지시스템공학부) 김곤호 (서울대학교 공과대학 에너지시스템공학부)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제13권 제4호
발행연도
2014.1
수록면
1 - 5 (5page)

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The plasma density distribution in between the electrode and lateral wall of a narrow gap CCP was investigated. The plasma density distribution was obtained using single Langmuir probe, having two peaks of density distribution at the center of electrode and at the peripheral area of electrodes. The plasma density distribution was compared with the RF fluctuation of plasma potential taken from capacitive probe. Ionization reactions obtained from numerical analysis using CFD-$ACE^+$ fluid model based code. The peaks in two region for plasma density and voltage fluctuation have similar spatial distribution according to input power. It was found that plasma density distribution between the electrode and the lateral wall is closely related with the local ionization.
#Capacitively coupled plasma #diffusion region #plasma density distribution #Capacitive probe #CFD- $ACE^+$

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