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Abstract
1. 序論
2. 實驗方法
3. 結果 및 考察
4. 結論
?考文獻
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SiH₄ 가스의 에너지 분포함수 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
SiH₄-Ar혼합기체의 전자분포함수 해석
전기학회논문지 P
2004 .06
SiH₄+Ar혼합기체의 전자군 파라미터 해석
대한전기학회 학술대회 논문집
2002 .06
SiH₄-N₂ 혼합가스를 사용한 플라즈마 CVD 실리콘질화막의 堆積과 電氣的 特性
전기학회논문지
1986 .08
SiH4/H2 혼합기체를 multistep 방식으로 증착한 수소화된 실리콘 박막의 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2012 .07
Study of silicon nitride etching with global warming effects for C₃F6O/O₂ and C₃F6/O gas mixtures
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
SiH₄ 플라즈마중의 전자수송특성 해석
대한전기학회 학술대회 논문집
1998 .11
SiH₄/H₂ 혼합기체를 Multistep 방식으로 증착한 수소화된 실리콘 박막의 특성 연구
전기학회논문지
2014 .02
반도체 및 FPD 분야에 사용되는 $SiH_{4}$ 가스의 공정 안전 고찰
한국안전학회지
2007 .01
SiH4/NH3/N2 및 SiH4/NH3/Ar 유량비율이 PECVD SiNx : H 박막의 특성에 미치는 영향 ( Effect of Flow Rate Ratios of SiH4/NH3/N2 and SiH4/NH3/Ar on the Properties of PECVD SiNx : H Films )
전자공학회논문지
1988 .05
SiH₄-H₂계에서 유체유동이 Si의 화학증착에 미치는 영향
한국표면공학회지
1990 .09
$SiH_4$ 첨가에 의한 저유전율 SiOF 박막의 유전 특성 안정화
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
박막 태양전지용 SiH₄ PECVD system의 수치 모델링
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2010 .05
SiH₄+Ar가스의 전자평균에너지 및 전자에너지분포함수 해석
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
텅스텐 플러그 CVD 공정에서 SiH4 Soak의 영향
전기전자재료학회논문지
2003 .01
SiH₄를 이용한 텅스텐의 화학증착시 압력증가가 증착에 미치는 영향
한국표면공학회지
1993 .02
특수가스(SiH₄/NF₃/N₂)의 가연성도표 활용
한국가스학회 학술대회논문집
2014 .11
Ar/N₂/SiH₄/NH₃ 유도 결합형 플라즈마의 N₂ 함량에 따른 플라즈마 특성 분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2016 .07
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