SiH4/NH3/N2 및 SiH4/NH3/Ar 유량비율이 PECVD SiNx : H 박막의 특성에 미치는 영향 ( Effect of Flow Rate Ratios of SiH4/NH3/N2 and SiH4/NH3/Ar on the Properties of PECVD SiNx : H Films )

김용태 ,  김춘근 ,  민석기

전자공학회논문지

1988 .05

SiH₄ 가스의 에너지 분포함수 관한 연구

성낙진 ,  김상남

대한전기학회 학술대회 논문집

2000 .07

PECVD 질화막 증착시 SiH₄/NH₃ 유량비가 비휘발성 MNOS 기억소자의 특성에 미치는 영향

이상배 ,  이근혁 ,  이형옥 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1992 .07

PECVD a - SiNx : H 薄膜의 特性과 熱的安定性

송진수 ,  박주석

한국태양에너지학회 논문집

1986 .05

플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구

정연학 ,  박재석 ,  이재신

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

PECVD의 주파수 조건에 따른 $SiN_x$막 증착

최정호 ,  노시철 ,  정종대 외 1명

반도체디스플레이기술학회지

2014 .01

SiH₄/H₂ 혼합기체를 Multistep 방식으로 증착한 수소화된 실리콘 박막의 특성 연구

김태환 ,  김동현 ,  이호준

전기학회논문지

2014 .02

Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )

정윤권 ,  정문식 ,  강봉구

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

60㎒ PECVD법에 의한 μc-Si:H 박막의 저온증착 및 태양전지 응용

이정철 ,  정연식 ,  김석기 외 5명

대한전기학회 학술대회 논문집

2003 .07

SiH₄ 플라즈마중의 전자수송특성 해석

이형윤 ,  하성철 ,  김대연

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .11

PECVD법에 의한 DLC 박막의 증착

김상호 ,  김동원

한국표면공학회지

2002 .04

$SiH_4$ 첨가에 의한 저유전율 SiOF 박막의 유전 특성 안정화

변경문 ,  이원종

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

PECVD에 의해 제조된 ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$ 박막의 특성 및 전기적 성질

홍성의 ,  윤순길

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)방법에 의한 a-C:H 박막의 열처리에 관한 연구

한준희 ,  진억용

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

SiH₄-H₂계에서 유체유동이 Si의 화학증착에 미치는 영향

趙星昱 ,  李京雨 ,  曹映煥 외 1명

한국표면공학회지

1990 .09

PECVD에 의한 질화 실리콘 박막의 증착

허창우

한국정보통신학회논문지

2007 .11

PECVD를 이용한 Si₃N₄ 박막의 공정변수에 따른 특성분석과 응용

신재완 ,  이복형 ,  이성대 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1999 .06

ECR-PECVD와 RF-PECVD법에 의해 증착된 TiN박막의 특성 비교

전병혁 ,  김종석 ,  이응직 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01