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Effect of Additive in Chemical Mechanical Polishing Using Potassium Hydroxide-Hydrogen Peroxide Based Slurry for LitaO₃ Substrate
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Lithium Tantalate(LiTaO₃) 웨이퍼의 CMP에 관한 연구
대한기계학회 논문집 A권
2005 .09
화학기계적 연마(CMP) 공정과 관련연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2014 .10
리튬탄탈레이트 광도파로에서의 효율적인 청색광파 생성 ( Efficient blue light generation in LiTaO3 optical waveguide )
대한전자공학회 기타 간행물
1995 .01
리튬탄탈레이트 광도파로에서의 효율적인 청색광파 생성 ( Efficient blue light generation in LiTaO3 optical waveguide )
한국통신학회 기타 간행물
1995 .01
준위상정합된 리튬탄탈레이트 광도파로에서의 청색 광파 생성 ( Blue Light Generation in a Quasi-Phase-Matched LiTaO3 Optical Waveguide )
전자공학회논문지-A
1995 .12
화학기계적 연마(CMP) 공정에서의 트라이볼로지 연구 동향
Tribology and Lubricants
2018 .06
PIV를 이용한 Chemical Mechanical Polishing 공정 중의 연마용액 유동흐름 측정
한국가시화정보학회 학술발표대회 논문집
2004 .11
화학기계적연마(CMP) 공정에서의 환경부하 평가
한국트라이볼로지학회 학술대회
2012 .10
실리카 연마제가 첨가된 재활용 슬러리를 사용한 2단계 CMP 특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
CMP 공정 후의 오염 제어
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
1998 .05
사파이어 CMP에서의 연마모델에 관한 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2017 .11
Fast Chemical Dry Thinning of Si Wafer
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
CMP 공정에서 접촉계면 특성변화에 따른 마찰력 신호 분석
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2004 .05
인쇄회로기판 이후 세정 공정의 특성 연구
한국트라이볼로지학회 학술대회
2014 .10
슬러리 온도 및 유량에 따른 CMP 연마특성
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2004 .11
마이크로 표면 구조물을 갖는 CMP 패드 제작 기술 개발
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2004 .05
실리카 슬러리의 에이징 효과 및 산화막 CMP 특성
전기전자재료학회논문지
2004 .01
패드의 점탄성 거동이 마이크로 패턴 CMP 연마 특성에 미치는 영향
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2014 .10
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