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( hfac ) Cu ( VTMOS ) 를 이용한 Thermal CVD Cu 박막의 제조 및 그 특성 ( Fabrication and Characteristics of MOCVD Cu Thin Films Using ( hfac ) Cu ( VTMOS ) )
전자공학회논문지-D
1999 .03
Fabrication and Characteristics of CVD Cu Thin Films Using ( Hfac ) Cu ( VTMOS )
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
(hfac)Cu(vtmos)의 액체분사법에 의한 TiN 기판상 구리박막의 유기금속 화학증착 특성
한국재료학회지
1999 .01
MOVCD에 있어서 구리(l)전구체들의 열적 안정성이 증착에 미치는 영향
한국재료학회지
1998 .01
Copper metallization에서 확산 장벽으로 삽입된 Ta 층에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
Cu oxide의 형성과 H(hfac) 반응을 이용한 Cu 박막의 건식식각
한국재료학회지
2001 .01
PEALD를 이용한 Ruthenium Barrier Layer 특성에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2010 .11
Character of Copper Films on Molybdenum Substrate by Addition of Titanium in an Advanced Metallization Process
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
(hfac)Cu(DMB)를 이용한 구리박막의 유기금속 화학증착
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
Copper Seed Layer 형성 및 도금 첨가제에 따른 Copper Via Filling
한국재료학회지
2012 .01
Cu(II) Hexafluoroacetylacetonate 프리커서에 의한 구리 화학증착의 열역학적 평형조성 해석
한국재료학회지
1995 .01
Cu Seed Layer의 열처리에 따른 전해동도금 전착속도 개선
한국재료학회지
2014 .01
Adhesion Improvement for Copper Process in TFT-LCD
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
METALLURGICAL ISSUES IN COPPER-BASED METALLIZATION
Fabrication and Characterization of Advanced Materials
1995 .01
Seed 금속의 종류와 두께에 따른 구리 전착층의 표면형상에 미치는 영향
한국재료학회지
2007 .01
수소 환원기체와 (hfac)Cu(3,3-dimethyl-1-butene) 증착원을 이용한 Pulsed MOCVD로 Cu seed layer 증착 특성에 미치는 영향에 관한 연구
한국재료학회지
2004 .01
Analysis of seed layer profiles inside the vias
한국재료학회 학술발표대회
2008 .01
Thick Graphene Embedded Metal Heat Spreader with Enhanced Thermal Conductivity
센서학회지
2014 .01
Cu 산화 공정과 H(hfac)을 이용한 Cu 박막의 건식 식각
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
ICB seeding에 의한 CVD Cu 박막의 증착 및 특성 분석
한국재료학회지
1996 .01
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