지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
저자소개
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Cl2/CF4/Ar 유도결합 플라즈마에 의해 식각된 SBT 박막의 표면 손상
전기전자재료학회논문지
2002 .01
CF₄/Ar 플라즈마를 이용한 SBT 박막 식각에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
유도결합형 플라즈마를 이용한 비파괴 판독형 강유전체 메모리를 위한 강유전체 SBT 박막의 건식 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회지
1999 .04
모래와 실트의 혼합층에서 순간충격시험에 의한 지하수위 강하구역의 공극체적 산정
지하수토양환경
2007 .01
유도결합형 플라즈마를 이용한 Ta 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
상부전극에 따른 SBT 커패시터의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
SBT 벌크 세라믹스 특성에 관한 연구
전기학회논문지 P
2000 .04
다양한 상부전극에 따른 SBT 커패시터의 전기적 특성
전기학회논문지 C
2003 .12
Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )
전자공학회논문지-SD
2000 .07
${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Ferroelectric 캐패시터의 하부전극에의 응용을 위한 IrO 박막 증착 및 특성분석
한국재료학회지
2003 .01
Cl₂/HBr,Cl₂/N₂ 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 식각 공정시 발생하는 결함의 거동에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
He/BCl₃/Cl₂유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2011 .01
0