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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2007년도 춘계 학술발표회 초록집
발행연도
2007.4
수록면
157 - 158 (2page)

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Tin oxide films were successfully crystallized without additional heating by inductively coupled plasma assisted chemical vapor deposition ICP-CVD). The degree of crystallization was affected by the ICP power, hydrogen flow and ion bombardment induced by negative substrate bias. The substr ... 전체 초록 보기

목차

Abstract
1. Introduction
2. Main subject
3. 결론
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