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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제37권 제3호
발행연도
2004.6
수록면
146 - 151 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2004

유도결합 플라즈마(ICP) Sputtering에 의한 평판 디스플레이 (FPD)용 ITO 박막의 저온 증착
구범모 ,  정승재 ,  한영훈 외 2명 한국표면공학회지 2004.06 학술저널
유도결합 플라즈마(ICP) Sputtering을 이용한 투명전도성 ITO 박막의 저온 증착 및 특성 연구
구범모 ,  정승재 ,  한영훈 외 1명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2004.05 학술대회자료

초록· 키워드

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Indium tin oxide (ITO) is widely used to make a transparent conducting film for various display devices and opto-electric devices. In this study, ITO films on glass substrate were fabricated by inductively coupled plasma (ICP) assisted de magnetron sputtering. A two-turn rf coil was inserted in the process chamber between the substrate and magnetron for the generation of ICP. The substrates were not heated intentionally. Subsequent post-annealing treatment for as-deposited ITO films was not performed. Low-temperature deposition technique is required for ITO films to be used with heat sensitive plastic substrates, such as the polycarbonate and acrylic substrates used in LCD devices. The surface roughness of the ITO films is also an important feature in the application of OLEDs along with the use of a low temperature deposition technique. In order to obtain optimum ITO thin film properties at low temperature, the depositions were carried out at different condition in changing of Ar and O₂ gas mixtures, ICP power. The electrical, optical and structural properties of the deposited films were characterized by four-point probe, UV/VIS spectrophotometer, atomic force microscopy (AFM) and x-ray diffraction (XRD). The electrical resistivity of the films was ~10?⁴Ω㎝ and the optical transmittance in the visible range was ＞85%. The surface roughness (R<SUB>rms</SUB>) was ~20Å.
#Indium tin oxide (ITO) #Inductively coupled plasma (ICP) #Sputtering

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

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