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오존에 의한 산화주석막의 제조
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .10
열화학증착법으로 제조된 $SnO_2$박막의 특성
한국재료학회지
2001 .01
Ozone Assisted-MOCVD로 제작된 산화주석막의 전기적 광학적 특성
한국표면공학회지
1998 .04
Physical properties of TiN thin films deposited by grid-assisted magnetron sputtering
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2002 .05
Cu 배선공정에서 CVD-TiN 박막의 확산방지막 특성
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
TiN 상에서의 CVD텅스텐막의 성장
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
TiN 기판상에서의 CVD텅스텐의 핵생성에 관한 연구
한국재료학회지
1992 .01
고밀도 플라즈마 CVD 방법에 의한 TiN barrier metal 형성과 특성
한국재료학회지
1999 .01
The Fabrication of Tin Oxide Films by Atomic Layer Deposition using Tetrakis(Ethylmethylamino) Tin Precursor
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2009 .01
O₃-MOCVD로 제조된 산화주석박막
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
이온빔 보조 증착에 의한 TiN 박막의 특성
한국안광학회지
2004 .04
TiN 에 대한 W의 부착특성에 관한 연구(l)
한국재료학회지
1993 .01
Thermal CVD 반응기 내부의 열 유동장에 대한 수치해석적 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .08
이온빔보조증착에 의한 TiN 박막의 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
PE-ALD를 이용한 SnO Thin Film의 특성
한국재료학회지
2004 .01
SiHCl 와 O을 이용한 원자층 증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성
한국재료학회지
2004 .01
PECVD에 의한 TiN 코팅의 마모특성 연구 ( Wear Characteristics of TiN Coating by Plasma Enhanced CVD )
Tribology and Lubricants
1990 .04
Cu 배선 공정에서 Al 중간층을 이용한 CVD-TiN 확산 방지막의 성능 향상
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
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