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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 논의
4. 결론
참고문헌
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Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 에 의한 상온 실리콘 산화막 형성시 질소 첨가가 절연막의 특성에 미치는 영향 ( Effects of Nitrogen Addition on the Dielectric Characteristics of Room Temperature Silicon Oxide Thin Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition )
전자공학회논문지-A
1994 .11
싸이클로트론의 컴퓨터 제어시스템
대한전기학회 학술대회 논문집
1986 .07
전자 공명을 이용한 저온 플라즈마 식각에 관한 연구
전기학회논문지
1993 .03
전자공명을 이용한 저온 플라즈마 식각에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1992 .07
초고진공 전자 사이클로트론 공명 화학 기상증착장치의 제작과 수소 플라즈마를 이용한 실리콘 기판 표면 세정화 ( Manufacturing of Ultrahigh Vacuum Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition Reactor and Si Wafer Surface Cleaning by Hydrogen Plasma )
전자공학회논문지-A
1994 .04
중이온 가속기를 위한 전자싸이클로트론공명장치용 초전도 마그네트 개발
대한전기학회 학술대회 논문집
2013 .07
플라즈마 화학증착 법에 의한 질화탄화규소의 박막증착
한국에너지학회 학술발표회
2014 .11
ECR 플라즈마 기상화학 증착법에 의해 증착된 TiN 박막의 비저항, 피복성 및 확산 방지 특성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
실리콘窒化膜의 氣相成長과 그 電氣的 特性
전기의세계
1979 .09
원자층 증착 방법으로 증착된 실리콘 질화막의 특성
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
Formation of β-SiC By Carburization of Si ( 100 ) Surface at 600 C using ultra-High Vacuum Electron Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
다결정 실리콘 박막트랜지스터를 위한 저온 Electron Cyclotron Resonance N₂O-플라즈마 산화
전기학회논문지
1998 .09
rf 플라즈마 화학기상증착기의 제작 및 특성
한국표면공학회지
2000 .04
Laser CVD에 의한 SiO2막의 형성과 제특성
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
지능형 제어기법을 이용한 싸이클로트론의 이온 빔 제어에 관한 연구
전기학회논문지 D
2000 .01
ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착
한국표면공학회지
1990 .12
Electron Cyclotron Resonance N₂O-플라즈마 산화를 이용한 열산화막의 신뢰성 향상
전기학회논문지
1998 .08
플라즈마 화학증착법의 발전과 응용 ( Application and Progress of Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition Process )
대한용접·접합학회지
1997 .10
Fabrication of Low Temperature Si Pn Diode by Ultrahigh Vacuum Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Surface Roughness and Defect morphology in Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma Cleaned ( 100 ) Silicon at Low Temperatures
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
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