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한국지능시스템학회 한국지능시스템학회 학술발표 논문집 한국퍼지 및 지능시스템학회 2004년도 춘계학술대회 학술발표논문집 제14권 제1호
발행연도
2004.4
수록면
149 - 152 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2004

차세대 반도체 세정장비용 스마트 제어기 설계
홍광진 ,  백승원 ,  조현찬 외 2명 한국지능시스템학회 학술발표 논문집 2004.04 학술대회자료
차세대 반도체 세정 장비용 약액 공급 시스템 연구
홍광진 ,  백승원 ,  조현찬 외 3명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2004.01 학술대회자료

초록· 키워드

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Generally the wafer is increased by 300㎜. We are desired that the wafer is prevented from pollutions of metal contaminant on surface of wafer. We have to develop new wafer cleaning process of IC Manufacturing that can reduce DI water and chemical by removal of the wafer cleaning process step. Moreover, it is difficult to control temprature and density of chemical in spite of rapidly increasing automation of system. We design smart module controller for new generation of semiconductor wet station with intelligent algorithm using data that is taken by computer simulation for optimal system.
#반도체장비 #지능 알고리즘 #약액공급장치

목차

Abstract
1. 서론
2. 약액 공급 시스템
3. 시뮬레이션
4. 결론 및 향후과제
ACKNOWLEDGEMENT
5. 참고문헌

참고문헌 (0)

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