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학술대회자료
저자정보
홍광진 (한국기술교육대학교) 백승원 (한국기술교육대학교) 조현찬 (한국기술교육대학교) 김광선 (한국기술교육대학교) 김두용 (순천향대학교) 조중근 ([주] 한국 DNS)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 발표 논문집
발행연도
2004.1
수록면
123 - 128 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2004

차세대 반도체 세정장비용 스마트 제어기 설계
홍광진 ,  백승원 ,  조현찬 외 2명 한국지능시스템학회 학술발표 논문집 2004.04 학술대회자료
차세대 반도체 세정 장비용 약액 공급 시스템 연구
홍광진 ,  백승원 ,  조현찬 외 3명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2004.01 학술대회자료

초록· 키워드

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Semiconductor Wet Station has a very important place in semiconductor process. It is important that to discharge chemical with fit concentration and temperature using chemical supply system for clean process. The chemical supply system which is used currently is not only difficult to make a fit mixing rate of chemical which is need in clean process, but also difficult to make fit concentration and temperature. Moreover, it has high stability but it is inefficient spatially because its volume is great. We propose In-line System to improve system with implement analysis of fluid and thermal transfer on chemical supply system and understand problem of system.
#세정장비 #지능 알고리즘 #약액공급장치

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