메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2003년 춘계학술대회논문집
발행연도
2003.4
수록면
1,078 - 1,082 (5page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

초록· 키워드

오류제보하기
A feasibility study for the fabrication of master replication with nanostructures by Nanoimprint
Lithography (NIL) was investigated for application of polymer Photonic Bandgap (PBG) devices used in
photonic IC. Large area gratings of 9 15 () with p = 400 was successfully embossed on PMMA on
silicon wafer and the embossing parameters (temperature, pressure, time) were established. A precise control
of Oplasma Reactive Ion Etching (RIE) process time allowed window opening over the whole area despite
the presence of wafer bending. Master replication with aspect ratio 1 was successfully fabricated, but master
replication with aspect ratio 3 needs to optimize parameters. All replications were done in a NIL process.

목차

Abstract

1. 서론

2. 나노 임프린트 리소그라피 공정

3. 마스터 복제 공정 실험

4. 실험결과 및 고찰

5. 결론

후기

참고문헌

참고문헌 (0)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-550-014203949