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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.4
- 수록면
- 1,069 - 1,072 (4page)
이용수
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2006
2004
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Ultraviolet-nanoimprint lithography (UV-NIL) is a promising nanoimprint method for cost-effectively
defining nanometer scale structures at room temperature and low pressure. Nanostamp fabrication technology
is a key technology for UV-NIL because fabricating a high resolution nanostamp is the first step for defining
high resolution nanostructures in a substrate. We used quartz as an UV transparent stamp material for the UVNIL.
A 5×5×0.09 inch stamp was fabricated using the quartz etch process in which Cr film was used as a hard
mask for transferring nanostructures into the quartz. In this paper, we describe the quartz etching process and
discuss the results including SEM images.
defining nanometer scale structures at room temperature and low pressure. Nanostamp fabrication technology
is a key technology for UV-NIL because fabricating a high resolution nanostamp is the first step for defining
high resolution nanostructures in a substrate. We used quartz as an UV transparent stamp material for the UVNIL.
A 5×5×0.09 inch stamp was fabricated using the quartz etch process in which Cr film was used as a hard
mask for transferring nanostructures into the quartz. In this paper, we describe the quartz etching process and
discuss the results including SEM images.
목차
Abstract
1. 서론
2. 제작과정 및 결과
3. 결로
후기
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