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이용수
ABSTRACT
1. 서론
2. 모델링 이론
3. 실험 장치 및 방법
4. 실험결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌
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패턴 밀도에 따른 산화막 웨이퍼의 CMP 모델링
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기계저널
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대한전기학회 학술대회 논문집
2002 .11
CMP 연마패드 형상 제어 및 실험적 검증
대한기계학회 춘추학술대회
2019 .11
Cu CMP에서 웨이퍼 스케일의 패턴 단차 감소에 관한 연구
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2014 .10
웨이퍼 궤적 시뮬레이션에 의한 CMP 균일도 향상 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
화학적 기계 연마를 위한 탄성변형을 고려한 평균유동모델
Tribology and Lubricants
2004 .10
산화막 CMP 에서 압력조건이 웨이퍼 가장자리 연마율에 미치는 영향
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2008 .06
향상된 단면연마 실리콘 웨이퍼가 화학적 기계적 연마에서 나노토포그래피에 미치는 영향의 스펙트럼 분석
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
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