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대한전자공학회 전자공학회논문지-SD 전자공학회논문지 SD편 제43권 제4호
발행연도
2006.4
수록면
1 - 7 (7page)

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RF 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 Ar/N₂ 가스비와 기판 온도 변화에 따른 AlN 박막의 배향성과 표면 거칠기 그리고 압전 특성의 변화를 조사하였다. 특히, Ar/N₂=10/10 (sccm), 기판 온도 400℃ 일 때 가장 우수한 (002) 배향성을 얻을 수 있었다. AFM 을 이용하여 표면 거칠기를 분석한 결과, 기판 온도 400℃ 인 경우 Ar/N₂ 가스비의 변화에 대해서는 N₂ 의 분압비가 증가할수록 표면 거칠기 특성이 좋아지는 것으로 나타났으며 Ar/N₂=0/20 (sccm) 일 때 2.1 nm 로 가장 작은 값을 나타내었다. Ar/N₂=10/10 (sccm) 인 조건에서 기판 온도 변화에 대한 표면 거칠기 특성은 기판 온도가 상온에서 300℃ 로 증가함에 따라 향상되는 경향을 보였으며, 300℃ 에서 3.036 nm 로 최소값을 나타낸 후, 기판 온도가 300℃ 이상으로 상승하면 표면 거칠기는 다시 열악해지는 것을 확인할 수 있었다. Pneumatic probe 방법을 이용하여 압전 특성을 측정한 결과, Ar/N₂=10/10 (sccm), 기판 온도 400℃ 일 때 piezoelectric constant (d₃₃)=6.01 pC/N 이라는 가장 우수한 값을 나타내었으며, 이는 AlN 박막이 가장 좋은 (002) 배향성을 갖는 조건과 일치하는 것이다.
#AlN #RF magnetron sputtering #orientation #roughness #piezoelectric constant

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 결과 및 논의
Ⅳ. 결론
참고문헌
저자소개

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