High Density Plasma Nitrogen Implantation을 이용한 Silicon Nitride 형성

김태호 ,  김형석 ,  김지영

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .02

C₄F8을 Feed Gas로 사용한 Silicon Nitride CVD 챔버의 Remote Plasma Cleaning 시 배출 가스에 관한 연구

오창현 ,  김기준 ,  김지황 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma

Wang YIYU ,  Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

NH₃/ N₂O / Ar Remote Plasma processing 의한 Si(001)의 plasma oxynitridation에 관한 연구

강신철 ,  오창현 ,  이내응 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

Optical properties of silicon nitride films by plasma - enhanced chemical vapor deposition

Changhun Ko ,  Chlyoung Ham ,  Heesoo Han 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature

Jeon G. HAN ,  Jun S. LEE ,  Bibhuti B. SAHU 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Cyclic Dry Cleaning Process of silicon oxide using OF₂/NH₃ Mixture Gas

길유정 ,  김두산 ,  김주은 외 1명

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2020 .02

C₄F8 / O₂ / (N - based additives)를 이용한 ICP - type의 remote plasma silicon nitride PECVD chamber 세정 시 발생되는 global warming gas 저감에 관한 연구

김지황 ,  배정운 ,  오창현 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Formation of Graphene-Seeds on Silicon Nitride Using Chemical Vapor Deposition

강도연 ,  박세근 ,  이준영 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Correlation Analysis of Plasma Properties and Film Properties using Optical Emission Spectroscopy in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes of Silicon Nitride

Seunghun Han ,  Byung hyun Oh ,  Heeyeop Chae

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Reactions between silicon precursors and surface sites during atomic layer deposition of silicon nitride

Luchana L. YUSUP ,  Jae-Min PARK ,  Ti 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Characterization of Low Stress Silicon Nitride for Stacked structure application

Kyoung Pil Na ,  So-Yeon Pa ,  k 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Density Functional Theory Study of Silicon Chlorides for Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Thin Films

Luchana L. Yusup ,  Sung-Joo Woo ,  Jae-Min Pa 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02

Correlation Study between Optical Emission Spectroscopy Signals and Silicon Nitride Film Properties in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

Seunghun Han ,  Sun Jung Kim ,  Heeyeop Chae

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas

김희주 ,  신예지 ,  김교운 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Prediction of Silicon Nitride Film Properties by the Analysis of Optical Emission Spectroscopy Signals in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

Sun Jung Kim ,  Seunghun Han ,  Heeyeop Chae

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

In - line surface cleaning using atmospheric pressure plasma

Seunghee Han ,  Yeonhee Lee ,  Junghee Cho 외 3명

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2001 .07

Chemical Mechanical Polishing (CMP) 공정후의 금속오염의 제거를 위한 건식세정

전부용 ,  이종무

Applied Science and Convergence Technology

2000 .05

Improvement in the bias stability of zinc oxide thin-film transistors using an O₂ plasma-treated silicon nitride insulator

김웅선 ,  문연건 ,  권태석 외 1명

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2010 .02

Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride using a VHF (162 MHz) plasma source

You Jin Ji ,  Ki Hyun Kim ,  Ki Seok Kim 외 5명

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2020 .02