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Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
PECVD로 증착된 Silicon Nitride 박막의 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
C₄F8O를 이용한 PECVD plasma 세정 공정 중 지구 온난화 gas 방출에 대한 첨가 gas의 효과
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .07
Passivation Properties of Hydrogenated Silicon Nitrides deposited by PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Silicon nitride cleaning by F₂ / Ar remote plasma processing
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
Low-temperature PECVD silicon nitride film for the fabrication of capacitance type pressure sensor
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Low global warming potential alternative gases for plasma chamber cleaning
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
C₄F8을 Feed Gas로 사용한 Silicon Nitride CVD 챔버의 Remote Plasma Cleaning 시 배출 가스에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
Synthesis of silicon nitride thin film for high permeation barrier performance with RF power variation on hollow cathode RF PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Correlation Analysis of Plasma Properties and Film Properties using Optical Emission Spectroscopy in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes of Silicon Nitride
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Silicon nitride deposition by VHF (162 MHz)-PECVD using a multi-tile push-pull plasma source
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Remote Plasma를 이용한 실리콘 산화막에 대한 건식세정 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Correlation Study between Optical Emission Spectroscopy Signals and Silicon Nitride Film Properties in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Prediction of Silicon Nitride Film Properties by the Analysis of Optical Emission Spectroscopy Signals in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Decrease of Global Warming Effect During Dry Etching of Silicon Nitride Layer Using C3F6O/O2 Chemistries
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
High Density Plasma Nitrogen Implantation을 이용한 Silicon Nitride 형성
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
Remote ICP PECVD를 이용한 Textured ZnO 박막의 광학적 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Prevention of P-i Interface Contamination Using In-situ Plasma Process in Single-chamber VHF-PECVD Process for a-Si:H Solar Cells
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Realization of efficient barrier performance of a silicon nitride film simply via plasma chemistry
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Plasma Synthesis of Silicon Nanoparticles for Next Generation Photovoltaics
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .02
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