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대한기계학회 대한기계학회 논문집 A권 대한기계학회논문집 A권 제27권 제9호
발행연도
2003.9
수록면
1,517 - 1,523 (7page)

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Deep X-ray lithography (DXRL), a fabrication method for the production of microstructures with a high aspect ratio, plays an important role in the subsequent electroplanting process. However, secondary radiation is generated during X-ray exposure and damages the resist adhesion to the metal layer. To solve adhesion problems, we modified the conventional DXRL process, changing the sequence of polymer adhesion in DXRL process. With optimized X-ray exposure and development conditions based on a calculated and modified X-ray power spectrum, we fabricated various polymer microstructures and achieved a maximum aspect ratio of 40.

목차

Abstract

1.서론

2.전통적 DXRL 공정의 문제점 및 개선 공정 개념

3.실험

4.결과 및 논의

5.결론

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