메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류
인문학
인문학 일반 역사학 철학 종교학 어문학 기타 인문학
사회과학
사회과학 일반 경영학 관광학 교육학 군사학 문헌정보학 법학 사회학 신문방송학 심리과학 정치외교학 지리학 행정학 경제학 무역학 인류학 기타 사회과학
자연과학
자연과학 일반 물리학 생물학 생활과학 수학·통계학 천문학 지구과학 화학 기타 자연과학
공학
공학 일반 건축공학 기계공학 산업공학 재료·에너지공학 전기전자공학 조선해양공학 화학공학 컴퓨터학 기타공학
의약학
의학 일반 간호학 수의학 약학 한의학 기초의학 임상의학 기타 의약학
농수해양학
농수해양학 일반 농학 수산학 식품과학 임학 축산학 해상운송학 기타 농수해양학
예술체육학
예술 일반 디자인 미술 미용 사진 음악학 의상 체육 공연매체예술 기타 예술체육학
복합학
학제간연구 과학기술학 뇌인지과학 기술정책 기타 복합학

ENG

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 논문집 A권 대한기계학회논문집 A권 제30권 제10호
발행연도
2006.10
수록면
1,314 - 1,319 (6page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

초록· 키워드

오류제보하기
This paper describes the novel fabrication method of the high-aspect-ratio nano structure which is impossible by conventional method using a shadow mask and a Deep X-ray Lithography (DXRL). The shadow mask with 1㎛-sized apertures is fabricated on the silicon membrane using a conventional UV-lithography. The size of aperture is reduced to 200㎚ by accumulated low stress silicon nitride using a LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) process. The X-ray mask is fabricated by depositing absorber layer (Au, 3㎛) on the back side of nano shadow mask. The thickness of an absorber layer must deposit dozens micrometers to obtain contrast more than 100 for a conventional DXRL process. The thickness of 3㎛-absorber layer can get sufficient contrast using a central beam stop method, blocking high energy X-rays. The nano circle and nano line, 200㎚ in diameter in width, respectively, were demonstrated 700㎚ in height with a negative photoresist of SU-8.
#Nano Shadow Mask(나노 쉐도우 마스크) #High-Aspect-Ratio Nano Structure(고폭비의 나노 구조물) #Deep X-Ray Lithography(X-선 노광 공정) #Nano X-Ray Shadow Mask(나노 X-선 쉐도우 마스크) #Central Beam Stop Method(중앙 빔 차단 방식)

목차

Abstract
1. 서론
2. 원리
3. 제작
4. 실험 및 고찰
5. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (13)

참고문헌 신청
Madou M. J., 2002, “Fundamentals of Microfabrication,” CRC Press, pp. 53~57. google schola Chou S. Y., Krauss P. R. and Renstrom P. J., 1996, “Nanoimprint Lithography,” J. Vac. Sci. Technol., Vol. 14, pp. 4129~4133. google schola Ginger D. S., Zhang H. and Mirkin C. A., 2004, “The Evolution of Dip-Pen Nanolithography,” Ang. Chem., Vol. 43, No. 1, pp. 30~45. google schola Seo Y. H., Choi D. S., Lee J. H., Je T. J. and Whang K. H., 2004, “Fabrication of High Aspect Ratio 100nm-scale Nickel Stamper Using E-beam Writing based on Chrome/Quartz Mask Without Anti-Reflection Layer for Injection Molding of Optical Grating,” Trans. google schola Brugger J., Berenschot J. W., Kuiper S., Nijdam W., Otter B. and Elwenspoek M., 2000, “Resistless Patterning of Sub-Micron Structures by Evaporator Through Nanostencils,” Microelectron. Eng., Vol. 53, pp. 403~405. google schola

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-550-017351771