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Performance Enhancement of 0.1nm nMOSFETs by Adjusting Channel Doping and Gate Oxide Thickness
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
δ - 도핑 NMOSFET 채널 내에서의 양자화 효과
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
Reliability Characteristics of La-doped High-k/Metal Gate nMOSFETs
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2009 .09
0.15μm Gate Length nMOSFETs with Indium Implanted Channel
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1996 .01
Metal Plasma-Etching Damages of NMOSFETs with Pure and N₂O Gate Oxides
한국정보통신학회논문지
1999 .06
A NOVEL TECHNIQUE OF N2O-TREATMENT ON NH3-NITRIDED OXIDE FOR FABRICATING GATE OXIDE IN NMOSFET`S
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
긴 채널 NMOSFET에 대한 통합 전류-전압 ( A Unified Current-Voltage Model for Long Channel NMOSFET's )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
NMOSFET SOI 소자에서 부분적 게이트 산화막 두께 변화에 의한 돌연 전류 효과 고찰
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
NMOSFET SOI 소자에서 부분적 게이트 산화막 두께 변화에 의한 돌연 전류 효과 고찰 ( A Study on the Current Kink Effect in NMOSFET SOI Device with the Varying Gate Oxide Thickness )
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
RTO 성장과 0.15mm NMOSFET에의 적용 ( Application of Ultra-Thin Rapid Thermal Oxide to 0.15mm NMOSFET )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
인듐을 채널 도펀트로 사용한 0.1㎛ nMOSFET에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
인듐을 채널 도펀트로 사용한 0.1μm nMOSFET에 관한 연구 ( A Study on 0.1μm nMOSFETs with Indium Implanted Channel )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
Hydrodynamic 방정식을 이용한 짧은 채널 Nmosfet의 풀이 방법 ( A Numerical Simulation on the Short Channel nMOSFET using Hydrodynamic Equations )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
두께 변화에 따른 Gate Oxide의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
Dielectric Degradation and Breakdown of High-k/Metal Gate Stack nMOSFETs
대한전자공학회 학술대회
2012 .06
NMOSFET에서 핫-캐리어 내성의 소자 개발
대한전자공학회 학술대회
2002 .06
게이트 레이아웃을 이용한70㎚ nMOSFET 초고주파 성능 최적화
대한전자공학회 학술대회
2006 .06
Hot carrier 효과에 의한 단채널 금속 게이트/High-k 절연막 nMOSFET의 고주파 특성 열화
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
비대칭 소오스 / 드레인을 갖는 NMOSFET의 전기적 특성 ( Electrical Characteristics of NMOSFET's with Asymmetric Source / Drain Region )
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
비대칭 소오스/드레인을 갖는 NMOSFET의 전기적 특성
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
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