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Metal Plasma-Etching Damages of NMOSFETs with Pure and N₂O Gate Oxides
한국정보통신학회논문지
1999 .06
Characteristics of 0.1μm nMOSFETs with Different Channel Doping and Gate Oxide Thickness
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1996 .01
0.15μm Gate Length nMOSFETs with Indium Implanted Channel
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1996 .01
Hot carrier 효과에 의한 단채널 금속 게이트/High-k 절연막 nMOSFET의 고주파 특성 열화
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
긴 채널 NMOSFET에 대한 통합 전류-전압 ( A Unified Current-Voltage Model for Long Channel NMOSFET's )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
Gate Matrix Layout
대한전자공학회 워크샵
1985 .01
δ - 도핑 NMOSFET 채널 내에서의 양자화 효과
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
RTO 성장과 0.15mm NMOSFET에의 적용 ( Application of Ultra-Thin Rapid Thermal Oxide to 0.15mm NMOSFET )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
Reliability Characteristics of La-doped High-k/Metal Gate nMOSFETs
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2009 .09
Dielectric Degradation and Breakdown of High-k/Metal Gate Stack nMOSFETs
대한전자공학회 학술대회
2012 .06
NMOSFET SOI 소자에서 부분적 게이트 산화막 두께 변화에 의한 돌연 전류 효과 고찰 ( A Study on the Current Kink Effect in NMOSFET SOI Device with the Varying Gate Oxide Thickness )
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
NMOSFET SOI 소자에서 부분적 게이트 산화막 두께 변화에 의한 돌연 전류 효과 고찰
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
NMOSFET에서 핫-캐리어 내성의 소자 개발
대한전자공학회 학술대회
2002 .06
Performance Enhancement of 0.1nm nMOSFETs by Adjusting Channel Doping and Gate Oxide Thickness
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
AN APPROACH TO GATE MATRIX LAYOUT
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
소자 분야 - Hot carrier에 의한 RF NMOSFET의 성능저하에 관한 연구
전자공학회논문지-D
1998 .10
Hydrodynamic 방정식을 이용한 짧은 채널 Nmosfet의 풀이 방법 ( A Numerical Simulation on the Short Channel nMOSFET using Hydrodynamic Equations )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
Hot electron에 의한 RF-nMOSFET의 DC 및 RF 특성 열화 모델 ( Hot electron induced degradation model of the DC and RF characteristics of RF-nMOSFET )
전자공학회논문지-D
1998 .11
Ⅲ-Ⅴ화합물 반도체 기반 Triple Gate MOSFET과 Gate All Around Nanowire NMOSFET의 성능 비교
대한전자공학회 학술대회
2015 .11
인듐을 채널 도펀트로 사용한 0.1㎛ nMOSFET에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
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