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고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 열질화 효과 ( Thermal Nitridation Effects of Ultrathin Oxides Grown By High Pressure Oxidation )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 열질화 효과
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
급속열산화법에 의한 실리콘 산화막의 특성 ( Characteristics of Silicon Oxide Films Grown by Rapid Thermal Oxidation )
전자공학회논문지-A
1991 .12
Electrical Characteristics of Thin Oxide Grown by High-Pressure Oxidation with Rapid Thermal Nitridation
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
저압급속열산화법과 플라즈마확산산화법에 의한 실리콘 산화박막의 제조
화학공학
2008 .01
급속 열처리에 의한 SiO2의 질화 ( Rapid Thermal Nitridation of SiO2 )
전자공학회논문지
1990 .05
연속적 급속열처리법에 의한 재산화질화산화막의 특성 ( Characteristics of Reoxidized-Nitrided-Oxide Films Prepared by Sequential Rapid Thermal Oxidation and Nitridation )
전자공학회논문지
1990 .05
SiO2박막의 열적 질화 ( Thermal Nitridation of Thin SiO2 Film )
전자공학회논문지
1988 .11
Rapid Thermal Nitridation Effets on Ultrathin Oxides Grown by High Presure Oxidation for ULSI Device Applications
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
급속 열처리 시스템 제작 및 실리콘 산화막 성장 ( Fabrication of Rapid Thermal Process System and Silicon Oxidation )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
고주파 유도 가열에 의한 Si의 열적질화 ( Thermal Nitridation of Si by RF Induction Heating )
전자공학회논문지
1990 .09
MOCVD법에 의한 GaN에 미치는 사파이어($Al_{2}$$O_{3}$) 질화 처리 효과
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
$N_2O$ 분위기에서 열산화법으로 성장시킨 $SiO_2$초박막의 전기적 특성
한국재료학회지
1994 .01
상온 플라즈마 질화막을 이용한 새로운 부분산화공정의 물성 및 전기적 특성에 관한 연구 ( Study on the Material and Electrical Characteristics of the New Semi-Recessed LOCOS by Room Temperature Plasma Nitridation )
전자공학회논문지
1989 .04
실리콘 산화막의 열적질화와 그 MOS특성에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1983 .01
ECR 플라즈마 질화에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Formed by ECR Plasma Nitridation )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
열산화법으로 형성한 탄탈륨 산화막의 전기적 특성 ( Electric Characteristics of Tantalum Pentoxide Thin Film Formed by Thermal Oxidation )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
열산화법으로 형성한 탄탈륨 산화막의 전기적 특성
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
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