ECR 플라즈마에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Thin Films Formed by ECR Plasma )

구본영 ,  전유찬 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .10

ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착

송선규 ,  장홍영

한국표면공학회지

1990 .12

플라즈마 실리콘 질화막의 전기적 특성에 관한 연구

주현성 ,  주승기

한국표면공학회지

1989 .12

ECR Plasma를 이용한 GaAs ( 100 ) 기판 표면의 질화반응에 관한 연구

모영환 ,  서영훈 ,  임기영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

상온에서 ECR PECVD에 의해 형성된 실리콘 산화질화막의 전기적 특성

이호영 ,  전유찬 ,  주승기

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

이온 분석기에 의한 ECR플라즈마의 특성 분석 및 실리콘 식각에 관한 연구

李晳賢 ,  李昈駿 ,  黃琪雄

전기학회논문지

1992 .05

이온에너지분석에 의한 Ecr 플라즈마의 특성 및 식각특성 연구 ( A Study on the Properties of Ecr Plasma and Its Etching Characteristics by Ion Energy Analysis )

이호준 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

ECR 산소 플라즈마를 이용한 저온 열산화 ( Low Temperature Thermal Oxidation using ECR Oxygen Plasma )

이정열 ,  강석원 ,  이진우 외 2명

전자공학회논문지-A

1995 .03

ECR 플라즈마를 이용한 Cu 박막의 건식 식각특성에 관한 연구

이성권 ,  이원종 ,  천성순

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

질화처리의 기초와 질화계처리

이준연

열처리공학회지

2008 .01

이온에너지분석에 의한 ECR 플라즈마의 특성및 식각특성 연구

이호준 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

ECR plasma를 이용한 실리콘 산화 박막 성장 및 특성연구

안명환 ,  윤창주 ,  이기방 외 9명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

ECR 플라즈마 방법에 의한 SiO2 박막 제조에 관한 연구 ( A Study on the Fabrication of SiO2 Films by ECR Plasma Method )

이현 ,  강문상 ,  구용서 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

ECR 플라즈마 방법에 SiO₂ 박막 제조에 관한 연구

이현 ,  강문상 ,  구용서 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

ECR 플라즈마를 이용한 반도체 공정기술

박성호 ,  강봉구

[ETRI] 전자통신동향분석

1988 .06

Compact ECR plasma 장치의 제작 및 특성 연구 ( Study on the Fabrication and Characterization of Compact ECR Plasma System )

윤민희 ,  박원일 ,  남기석 외 1명

전자공학회논문지-A

1994 .04

ECR의 원리를 이용한 플라즈마 가열장치에 대한 연구

김원섭

대한전기학회 학술대회 논문집

2002 .07

플라즈마 이온질화 공정온도에 따른 스테인리스강 질화층의 표면 특성

임경민 ,  김혜민 ,  이승효 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2012 .11

다공질 실리콘 질화막의 제조 ( Fabrication of Porous Silicon Nitride )

조범무 ,  이용현 ,  이종현 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1991 .01