급속열질화에 의한 고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 특성개선 ( Improvement of Thin Oxide Grown by High Pressure Oxidation using Rapid Thermal Nitridation )

노태문 ,  이대우 ,  송윤호 외 4명

전자공학회논문지-D

1997 .08

고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 열질화 효과 ( Thermal Nitridation Effects of Ultrathin Oxides Grown By High Pressure Oxidation )

노태문 ,  이대우 ,  박종문 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 열질화 효과

노태문 ,  이대우 ,  박종문 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Rapid Thermal Nitridation Effets on Ultrathin Oxides Grown by High Presure Oxidation for ULSI Device Applications

Tae Moon Roh ,  Dae Woo Lee ,  Jong Moon Pa 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

연속적 급속열처리법에 의한 재산화질화산화막의 특성 ( Characteristics of Reoxidized-Nitrided-Oxide Films Prepared by Sequential Rapid Thermal Oxidation and Nitridation )

노태문 ,  이경수 ,  이중환 외 1명

전자공학회논문지

1990 .05

급속열산화법에 의한 실리콘 산화막의 특성 ( Characteristics of Silicon Oxide Films Grown by Rapid Thermal Oxidation )

이귀연 ,  양두영 ,  이정용

전자공학회논문지-A

1991 .12

급속 열처리에 의한 SiO2의 질화 ( Rapid Thermal Nitridation of SiO2 )

이용현 ,  왕진석

전자공학회논문지

1990 .05

표면 보호막 생성에 Rapid thermal oxidation을 이용한 실리콘 솔라셀

류경선 ,  허관준 ,  김성진

대한전자공학회 학술대회

2013 .11

Fe-XAl-0.1Y(X =5, 10, 14 wt.%) 합금의 고온 산화거동

이병우 ,  서원찬 ,  박찬

한국재료학회지

2003 .01

Impact of Low Thermal Budget Dual Oxidation on Tunnel Oxide Characteristics

Kyong Moo Mang ,  Jong Han Kim ,  Wang Chul Shin 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

Modeling of Three-Dimensional Thermal Oxidation

이준하 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

SiO2박막의 열적 질화 ( Thermal Nitridation of Thin SiO2 Film )

이용수 ,  이용현 ,  손병기

전자공학회논문지

1988 .11

Rapid Thermal Process에 의해 형성시킨 얇은 산화막의 전기적 특성

이철진 ,  성만영 ,  성영권

대한전기학회 학술대회 논문집

1994 .11

Rapid Thermal Annealing for the Thermal Oxidation and the Activation of implanted Impurities

Kazushige Ayukawa ,  Katsufusa Ayukawa

대한전자공학회 세미나

1992 .01

MOS 소자용 Silicon Carbide의 열산화막 생성 및 특징

오경영 ,  이계홍 ,  이계홍 외 1명

한국재료학회지

2002 .01

Electrical and Physical Properties of Ultrathin Reoxidized Nitrided Oxide Grown by Rapid Thermal Processing

박훈수

KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING

1990 .01

고주파 유도 가열에 의한 Si의 열적질화 ( Thermal Nitridation of Si by RF Induction Heating )

이용현 ,  왕진석

전자공학회논문지

1990 .09

고분자전해질 연료전지용 Cu/Cr기 금속분리판의 내식성에 미치는 표면질화처리 효과

이혜연 ,  이석현 ,  김정헌 외 2명

한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집

2006 .11