Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas

Y.H. Lee ,  Y.J. Sung ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성

김문영 ,  김태현 ,  장상훈 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .11

유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구

김현수 ,  이재원 ,  김태일 외 1명

한국표면공학회지

1999 .04

$Cl_2$-ICP를 이용한 Doped GaN 식각의 공정변수적 연구

임연호 ,  조범철 ,  박진수 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2018 .10

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2019 .07

GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성

한윤봉 ,  최창선 ,  임연호 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2000 .01

Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source

이원석 ,  정상섭 ,  강창진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Etching Characteristics of Contact Holes with a Phase-Controlled Pulsed Inductively Coupled Plasma

신경섭 ,  강창진 ,  정철 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )

이희습 ,  이종근 ,  정형섭 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .07

Spatial and Temporal Radical Distribution in Inductively Coupled Plasma for SiO2 Etching

S. Hayashi ,  M. Yamanaka ,  M. Kubota 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

고진공에서의 Inductively Coupled Plasma 특성 진단

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2020 .07

Etching characteristics of Al-Nd alloy thin films using magnetized inductively coupled plasma

Y.J. Lee ,  H.R. Han ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정 변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향

金文永 ,  太興植 ,  李昈駿 외 3명

전기학회논문지 C

2000 .08

Cl/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

민수련 ,  이장우 ,  조한나 외 1명

공업화학

2007 .01

The Effect of Substrate Heating Technique for Selective Etching in Pulse-biased Inductively Coupled Plasma

Kyung Chae Yang ,  Min Hwan Jeon ,  Geun Young Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

A NOVEL MATERIAL FOR OPTOELECTRONIC APPLICATIONS

Tu ,  C.W. ,  Xin 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source

이승민 ,  김경남 ,  김태형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01