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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.12
- 수록면
- 61 - 61 (1page)
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HfO₂ 기반 강유전체는 2006년 처음 발견되고 2011년 처음 발표된 이후 차세대 반도체 소자용 소재로 큰 관심을 끌고 있다. 기존 강유전체와 달리 10 nm 이하의 초박막에서도 잔류분극이 20 μC/㎠ 이상의 우수한 강유전성의 발현이 가능하며, 원자층증착법을 통한 우수한 물성의 박막이 증착 가능하여 기존 강유전체가 가지고 있는 물리적 미세화에 따른 특성 열화 문제를 해결할 수 있는 소재로 학계 및 산업계에서 활발한 연구가 이루어지고 있다. 짧은 역사에도 불구하고 특유의 Complementary metal oxide semiconductor 기술과의 높은 적합성으로 이미 28 nm 선폭의 ferroelectric field-effect-trans ... 전체 초록 보기
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