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신우상 (한국생산기술연구원) 이종현 (한국생산기술연구원) 이태한 (한국생산기술연구원) 손지훈 (케이씨텍) 이태경 (한국생산기술연구원) 김도연 (한국생산기술연구원) 조한철 (한국생산기술연구원) 윤종필 (한국생산기술연구원)
저널정보
제어로봇시스템학회 제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집 2021 제36회 제어로봇시스템학회 학술대회
발행연도
2021.6
수록면
38 - 39 (2page)

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Post-CMP cleaning among the semiconductor process is very important because it can cause fatal defects on the wafer. To control the cleaning equipment in this process well, it is necessary to recognize the internal state ... 전체 초록 보기
#Chemical Mechanical Planarization #Post-CMP cleaning #Internal state recognition #Deep learning #Convolution neural network

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