불소화 고분자 소재 기반 극자외선 레지스트 개발

이진균; 오현택; 구예진; 김강현; 이상설

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저자정보: 이진균 (인하대학교) 오현택 (인하대학교) 구예진 (인하대학교) 김강현 (POSTECH) 이상설 (POSTECH)

저널정보: 한국고분자학회 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 한국고분자학회 2021년도 춘계학술대회 연구논문 초록집 제46권 제1호

발행연도: 2021.4

수록면: 38 - 38 (1page)

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13.5 nm의 단파장 광원을 이용하는 극자외선 리소그래피(EUVL)는 화학증폭형 포토레지스트(CAR)와 함께 서서히 고성능 IC 칩의 상업 생산에 투입되기 시작하고 있다. 하지만 EUVL이 보다 큰 규모의 상용화로 성공적으로 진행하기 위해서는 포토레지스트와 관련된 기술적 장애물을 넘어야 한다고 얘기된다. 발표자를 포함한 인하대-포항공대 공동연구진은 EUVL의 효용성을 높이기 위한 레 ... 전체 초록 보기

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